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GD-MS 辉光放电质谱

产品介绍

Product Introduction

利用辉光放电对固体样品直接进行溅射与电离,免除繁琐的湿法消解流程。配合双聚焦扇形场设计,可近乎全元素覆盖地实现导电及部分非导电材料中痕量杂质的直接定量分析。极低的基体效应与全谱扫描能力,使其成为高纯金属、半导体、核材料及电池材料体相杂质表征与深度剖析的优选技术。

应用领域

Application areas

  • 高纯金属与合金质控

  • 半导体材料

  • 核材料

  • 电池材料

  • 先进涂层与薄膜分析