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金属杂质取样制备系统

产品介绍

Product Introduction

系统采用现场取样、自动制备样品、自动分析的方式,将专用取样瓶安装就位,调用预设取样方法,一键启动完成样品取样与制备。通过系统智能控制,实时监控仪器状态,达到无人值守的目的,最大程度节约人力资源。样品制备完成后,可直接进入ICP-MS分析,无需取样后复杂的手动前处理过程,减少人为因素对样品的二次污染。

该系统广泛应用于半导体、电子特气、高纯气体等样品的杂质检测分析。

产品特点

Product Features

 · 自动化制备与分析

采用先进的预处理气体制备技术,针对电子特气及高纯气体的杂质检测,实现了全自动的样品预处理、制备及分析流程,提升分析效率与准确性。

 · 智能化交互界面

搭载用户友好的智能化触控交互界面,操作简便直观。一键启动,轻松实现样品的全自动制备与分析。

 · 高效联动

系统高效联动样品前处理系统(PRE-100),同时对接ICP-MS等分析设备,构建从样品准备到结果输出的全自动化分析,实现样品处理的智能化与高效化。

· 正压防爆设计

系统具备防爆安全系统,适用于高危环境,确保设备在危险环境中的安全运行,配备多种报警装置,保证异常情况能及时得到处理。

· 数据分析与记录

通过QC-智慧中台系统,利用可视化界面实时监控仪器状态,进行数据分析、统计及记录。

 · 低污染高精度取样

系统能够精确控制气体取样量及流量,内部风道配备超高效过滤器,维持内部操作空间的洁净度,确保取样人员安全的同时,也有效保障样品结果的准确性。

系统针对不同形态的高纯、高危样品,采用两种自动化前处理技术。

  • 撞击洗气法

     · 适用于气体样品

     · 全程密闭自动化完成,适用于硅烷等高危气体及高纯氢气、氦气等大宗气体的ppt级超痕量金属杂质分析,彻底杜绝人工取样安全风险。

  • 氮吹法

     · 适用于液体样品

     · 快速除去氯硅烷、液态氟化物等高纯化学品中的挥发性基体,保留非挥发性金属杂质,再加入定量复溶液体精准回溶,使样品达到可直接进样分析状态。

     · 全程自动化控制,确保基体去除彻底、复溶精准无污染。

应用场景

Application Scenarios

  • 电子特气

  • 高纯气体

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