半导体行业——含氟特气在线自动化分析解决方案

2024-11-19 13:57:59

市场背景

含氟特气，作为电子特种气体（简称电子特气）的一个重要分支，在电子工业中扮演着至关重要的角色。它们通常具有高纯度和稳定性，被广泛应用于半导体制造、光伏产业、显示屏制造、激光器制造等高科技领域。这些气体在制造过程中起着清洗、刻蚀、掺杂、成膜等多种作用，对最终产品的性能有着重要影响。

目前全球电子气体市场中，含氟系列电子气体约占其总量的30%左右。然而，含氟气体的精准测量一直是行业的挑战。

是高智能科技凭借其创新性，开发出含氟特气在线自动化分析系统，旨在为行业提供精准、可靠的氟特气含量分析解决方案。

常见的含氟特气包括但不限于以下几种：

三氟化氮（NF₃）：用于清洗和去除沉积物的气体，通常用于清洗反应室和设备表面。

六氟化硫（SF₆）：用于氧化物沉积过程中的氟化剂，以及作为绝缘气体用于绝缘介质的填充。

氟化氢（HF）：用于去除硅表面的氧化物，以及作为蚀刻剂用于刻蚀硅和其他材料。

氟化氮（NF）：用于刻蚀氮化硅（SiN）和氮化铝（AlN）等材料。

三氟甲烷（CHF₃）和四氟甲烷（CF₄）：用于刻蚀氟化物材料，如氟化硅和氟化铝等。

但含氟气体具有一定的危险性，包括毒性、腐蚀性、燃烧性等。

含氟特气在线自动化分析解决方案

往往含氟电子特气中的常量杂质分析，比如O₂、Ar、CO、CO₂、CH₄、SF₆、N₂O、SF₆等，只要准确测定含氟气体中各种杂质气体的含量，就可以求得含氟气体的纯度。

该方案主要由QC智慧中台系统、在线前处理模块、在线自动化分析模块（在线气相色谱系统）等组成，实现对含氟特气的在线、连续、高精度分析。通过这一系统，样品自动检测分析，数据通过QC智慧中台自动生成分析报告，并同步至LIMS或DCS系统，为含氟特气的质量管控提供可靠的数据支撑。